新美光“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”专利公布

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天眼查显示,新美光(苏州)半导体科技有限公司“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”专利公布,申请公布日为2024年7月23日,申请公布号为CN118374794A。

本发明涉及一种衬底加热体组件及化学气相沉积设备,其中提供了一种衬底加热体组件,包括衬底和加热体,衬底包括第一表面、第二表面和中空区,第一表面和第二表面均用于供反应气体沉积,中空区位于第一表面和第二表面之间;加热体位于中空区内,用于产生热量以至少加热第一表面和第二表面。本发明的衬底设计为内部中空的结构,第一表面及第二表面均为衬底靠近中空区部分的外表面,位于中空区的加热体对衬底的第一表面和第二表面沿径向的各个位置的加热效果相对较为平均,不容易产生沉积的产品厚度差异过大的问题,一定程度上提高了衬底上沉积材料的厚度均一性及组织性能均匀性。


责编: 赵碧莹
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