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拉普拉斯“反应炉和镀膜系统”专利公布

作者: 爱集微 2024-11-16
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来源:爱集微 #拉普拉斯#
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天眼查显示,拉普拉斯新能源科技股份有限公司“反应炉和镀膜系统”专利公布,申请公布日为2024年10月18日,申请公布号为CN118792638A。

本公开涉及半导体或光伏材料加工技术领域,具体涉及一种反应炉和镀膜系统,解决了相关技术的反应炉的产能低的问题。本公开实施例提供的一种反应炉,被配置为对待加工产品进行镀膜,待加工产品的形状包括立方体。反应炉包括:腔体和炉门。腔体具有腔室,腔室包括立方体,腔室具有朝向下方的炉口,腔室被配置为容纳待加工产品,炉门位于腔体的下方,被配置为承载待加工产品,并能够在外力的驱动下打开或关闭炉口。立方体的腔室相对于圆柱体的腔室可容纳待加工产品的数量更多,另外,朝向下方的炉口可以避免通过悬臂驱动炉门来打开或关闭炉口,进而避免受悬臂的承载重量限制,以使炉门承载的待加工产品的数量更多,从而提高反应炉的产能。

责编: 赵碧莹
来源:爱集微 #拉普拉斯#
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