5月27日，拓荆科技高管在2025年第一季度业绩说明会上表示，公司在手订单充足，目前看公司2025年整体经营性趋势非常健康。截至2024年年末，公司在手订单金额约94亿元，主要产品包括PECVD:ALD、SACVD、HDPCVD、FlowableCVD等薄膜沉积设备，以及应用于三维集成领域的先进键合设备。

订单构成中，薄膜沉积设备占据主导地位，包括PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）及FlowableCVD（可流动化学气相沉积）等系列产品。其中，PECVD设备作为核心产品持续放量，ALD系列工艺覆盖率国内领先，HDPCVD和SACVD设备逐步实现产业化应用。此外，三维集成领域的关键设备如晶圆对晶圆混合键合设备、芯片对晶圆键合前表面预处理设备等获得重复订单，并扩大量产规模。

公司订单高增长得益于产品竞争力的持续提升及客户认可度增强。2024年，拓荆科技营收达41.03亿元，同比增长51.7%，薄膜沉积设备收入占比超90%。PECVDBianca、基于新型反应腔的Stack（ONO叠层）等先进工艺设备批量出货，ALDSiCO/SiN/AlN等工艺验证通过并实现产业化，进一步巩固市场地位。与此同时，三维集成设备在先进封装领域的突破，为HBM（高带宽内存）和Chiplet（芯粒）技术需求提供了设备支撑。

财务数据显示，拓荆科技2024年末合同负债达29.83亿元，较年初增长115.9%；存货规模同比增长39%，发出商品余额激增94%，预示未来收入确认节奏加快。尽管新产品验证成本短期影响毛利率，但公司经营性现金流净额同比大幅收窄，经营质量持续改善。目前，公司正加速海外市场布局，已建立日本和新加坡分公司，进一步拓展全球销售渠道。

（校对/黄仁贵）