4月27日，中国台湾地区智慧财产及商业法院对备受行业关注的台积电2纳米先进制程泄密案作出一审判决，主犯、台积电前工程师陈力铭因窃取核心技术机密，被判处10年有期徒刑，多名共犯及涉事日企东京威力科创（TEL）均受到相应惩处，该案成为近年全球半导体行业技术泄密领域惩处最严厉的案件之一。
该案的曝光源于2026年初台积电内部智能监控系统捕捉到的异常操作。经查，曾任职于台积电12厂良率部门的陈力铭，离职后加入东京威力科创，为帮助该企业争夺台积电2纳米制程设备供应订单，于2025年至2026年初，勾结台积电3名在职工程师，通过远程登录内网、手机偷拍屏幕等隐蔽方式，窃取2纳米制程蚀刻参数、良率调校数据等核心机密，形成跨企业技术窃取链条。
法院审理查明，该案涉案人员达9人，涵盖台积电研发、生产多个部门，泄露的核心技术资料涉及十多项关键内容。除主犯陈力铭获刑10年外，3名在职共犯分别被判处2至6年有期徒刑，东京威力科创一名主管获刑10个月、缓刑3年，该企业被处以1.5亿元新台币罚金，凸显了司法机关对半导体核心技术泄密行为的零容忍态度。
作为全球先进制程的领跑者，台积电在2纳米技术领域的投入巨大，其技术优势直接决定全球高端芯片的供应格局，此次泄密事件虽未造成核心技术体系的根本性破坏，但也给行业敲响了警钟。对于企业而言，即便建立了完善的机密保护体系，内部人员的利益诱惑仍可能成为技术安全的薄弱环节，如何强化核心岗位人员管理、堵住远程办公等场景的防护漏洞，成为所有科技企业亟待解决的课题。
目前，该案相关涉案人员及企业均有权提起上诉，后续司法进展将持续受到半导体行业关注。此次判决的落地，既是对台积电技术权益的依法维护，也将对全球半导体企业的技术保密管理产生影响，为行业核心技术保护提供了司法实践参考。
（校对/李正操）
