盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机

作者：魏健 2022-12-29

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近日，盛美上海首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备。

今年11月，盛美上海推出涂胶显影Track设备，正式进军涂胶显影Track市场。当时消息称，该设备是一款应用于300毫米晶圆工艺的设备，可提供均匀的下降气流、高速稳定的机械手处理以及强大的软件系统，从而满足客户特定需求；该设备功能多样，能够降低产品缺陷率，提高产能，节约总体拥有成本（COO）；该设备还将支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺，同时让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。

此外，盛美上海将于2023年推出i-line型号设备，并且公司已开始着手研发KrF型号设备。

（校对/赵碧莹）