据宁波前湾新区发布消息，3月19日上午，宁波冠石半导体光掩模版制造项目举行新品发布暨通线活动。
（来源：宁波前湾新区发布）
宁波冠石半导体是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业。宁波冠石光掩模版制造项目2023年5月16日签约，同年10月1日落地开工，2024年1月27日落成结顶，如今项目通线投产，用时不到两年，完成固定资产投资超10亿元，亩均有效投资强度超1500万元。
2024年7月消息，宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，该企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。
据悉，光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，其功能类似于相机的“底片”。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前，我国高精度半导体光掩模版产品主要仍依赖于进口，国产化率极低。
目前，宁波冠石已实现55nm光掩模版产品交付及40nm产线通线，该企业产品将广泛应用于人工智能、高性能计算、新能源汽车、消费电子等集成电路制造领域。
