近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布其Primo Menova™12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商。

据悉，中微公司的12英寸ICP单腔刻蚀设备 Primo Menova™专注于金属刻蚀，尤其擅长于金属Al线、Al块的刻蚀，可广泛应用于功率半导体、存储器件和先进逻辑芯片的制造，是晶圆厂金属化工艺主要设备之一。Primo Menova™基于中微量产的ICP刻蚀产品Primo Nanova®研发制造，秉承了优异的刻蚀均一性控制，可达到高速率、高选择比及低底层介质损伤等刻蚀性能。Primo Menova™搭配高效率腔体清洁工艺，可减少腔室污染，延长腔体持续运行时间。Primo Menova™系统还集成了配备高温水蒸气的除胶腔室（strip chamber），高效去除金属刻蚀后晶圆表面残留光刻胶及副产物。Primo Menova™和除胶腔体可根据客户工艺需求灵活搭配，最大程度满足客户高生产效率的要求，确保机台在高负荷生产中的稳定性与良率。

截至2024年年底，中微公司累计已有超过6000台等离子体刻蚀和化学薄膜设备的反应台，在国内外137条生产线实现量产和大规模重复性销售。（校对/李梅）