在半导体产业加速迈向AI时代、先进制程与化合物半导体成为行业增长核心引擎的背景下，御微半导体于3月25日在SEMICON China 2026展会期间正式发布其最新研发的掩模图形缺陷检测设备——Raptor-500。
作为国内首台满足90纳米制程及以上节点的掩模图形缺陷检测设备，Raptor-500的推出不仅填补了细分领域国产装备的空白，也为国内掩模版制造企业以及晶圆制造企业在成熟制程环节提供了更具竞争力的国产化选择。
直击掩模检测核心，打造全生命周期质量管控
半导体制造中，掩模版承载着芯片设计的关键图形信息，通过光刻将其精准传递至晶圆。掩模版的品质直接决定了芯片制造的良率与可靠性。正因如此，掩模版的质量控制被赋予极高要求。
御微半导体自创立以来，始终专注于集成电路光学量检测系统的设计与集成。此次发布的Raptor-500，正是公司在掩模版制造与检测领域多年技术积累的集中体现。据御微半导体助理总裁聂秋平在发布会致辞中介绍，Raptor-500的研发汇聚了公司多项核心技术突破，包括透射反射紫外光学成像技术、高速气浮运动台技术、高速AI算法技术以及精密环境控制技术。
“Raptor-500不单是一台硬件设备，更在掩模版及光刻领域具有极高的战略意义。”聂秋平表示，“感谢多家客户近一年的协同打磨，御微根据数百条改进建议不断优化，目前该设备已在客户方完成验收，并开始为国内掩模产业贡献自主化量产能力。”
在发布会现场，御微半导体掩模产品事业部总经理王伟对Raptor-500的技术特性进行了深度解读。他表示，该设备在功能、性能、硬件配置乃至算法方面具备多项核心优势：
六大核心优势，构筑掩模良率新管家
多场景应用：Raptor-500可同时满足掩模版制造端的出厂检验与晶圆制造端的入厂质量控制需求，贯穿掩模版全链条质量管控。
多像素选择：支持P375、P250、P186、P150等多种像素规格，灵活适配不同制程节点对检测精度及产率的要求。
多版型兼容：全面支持当前国内主流掩模版类型，包括二元掩模、相移掩模等。
多检测模式：支持DD、SD、DB、MBB以及Combo检测模式（如DD+SD、SD+DB等），可根据不同工艺需求灵活配置。
多数据格式：具备先进的DB算法，支持GDS、Mebes、OASIS等多种数据文件格式的转换与处理。
灵活布局设计：针对Maskshop及FAB厂“寸土寸金”的场地现状，Raptor-500支持多种布局方式，可在FAB/SubFAB灵活配置辅助设备，最大化节省用户占地面积。
“四高”性能确立技术标杆
在性能层面，Raptor-500以“高灵敏度、高效率、高检出率、高精度缺陷定位”四大指标确立了其在掩模图形缺陷检测领域的技术标杆地位。
据实测数据，Raptor-500可检出的最小缺陷尺寸达到40纳米，显著提升了对细微缺陷的捕捉能力。在检测效率方面，设备采用透射与反射同步采样技术，配合实时图像处理，大幅缩短单版检测时间，为客户提供更具优势的CoO。更为关键的是，设备对关键缺陷实现了100%的检出率，确保无任何致命缺陷流入后续工序。此外，纳米级运动控制系统为缺陷定位提供了高精度保障，可有效辅助后续修复流程，提升整体作业效率。
王伟特别指出，Raptor-500的检测算法基于真物理仿真模型构建，该模型通过模拟掩模版及光学系统的物理特性，能够更精准地捕捉不同物理条件下的掩模缺陷，从而在不同工艺条件下保持稳定的检出能力。此外，与Raptor-500适配的掩模数据分析与管理系统，集成自动缺陷分类功能，能将缺陷识别流程自动化。同时，也可分析检测出的缺陷在晶圆曝光时的实际“可印刷性”，帮助工程师判断哪些缺陷真正影响良率，避免不必要的修补。
构建掩模全生命周期解决方案
Raptor-500的发布，标志着御微半导体在掩模版制造与检测领域的产品矩阵进一步完善。截至目前，御微已构建起覆盖掩模基板制造、掩模版制造、芯片制造和先进封装四大应用领域的全系列量检测产品体系。
在掩模相关领域，御微已先后推出i6R掩模版无图形缺陷检测设备、Halo系列掩模基板检测设备、Raptor系列掩模图形缺陷检测设备以及APEX系列原子力显微镜量测设备，形成了从玻璃基板到成品掩模、从掩模制造厂到晶圆制造厂的全生命周期质量控制闭环。
“Raptor-500不仅是单一设备，更是御微掩模全生命周期解决方案的关键一环。”聂秋平表示，“通过构建完整的产品矩阵，我们希望能够为客户提供更具价值且自主可控的质量保障体系。”
服务与生态并重，助力产业自主化
在设备性能之外，御微同步强化了服务体系与生态能力的建设。目前，公司已在上海、合肥、北京、西安、南京、新加坡等地设立研发生产基地，并在全国范围内布局了超过18个服务中心，构建起7×24小时响应的服务网络。
针对Raptor-500，御微还推出了定制化响应机制，深度介入客户工艺需求，提供精准匹配的解决方案。
“我们希望Raptor-500不仅成为掩模良率的新管家，更成为客户在掩模检测领域的首选合作伙伴。”
总结：
随着AI算力、先进封装、化合物半导体等新兴应用的持续爆发，半导体制造对掩模质量与检测能力提出了更高要求。作为国内半导体光学量检测装备领域的重要参与者，御微半导体此次Raptor-500的推出，不仅为国内成熟制程掩模检测提供了自主可控的解决方案，也为下一代更高精度掩模检测设备的研发奠定了坚实基础。
正如聂秋平在致辞中所言：“Raptor-500的问世，承载着御微创业团队的初心，也见证了中国半导体装备在关键环节不断突破的历程。御微将继续以技术和市场双轮驱动，为推动我国集成电路产业自主化贡献更多力量。”
