近日，璞璘科技联合力策科技，依托真空气压式纳米压印技术完成8英寸光芯片量产落地，国产首台替代DUV光刻机的光芯片量产设备实现产业化突破，新工艺可将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的1/10。
传统光芯片制造长期依赖进口DUV光刻设备，设备采购、运维成本居高不下，是制约国内光芯片规模化降本的关键瓶颈。DUV光刻机海外供货周期长、采购价格昂贵，抬升本土无源、有源光芯片量产门槛，国内光模块、算力光互连产业链成本难以进一步下探。纳米压印作为下一代微纳图形制造路线，凭借工艺简洁、设备造价低的优势，成为光芯片国产化降本的关键技术方向。
本次落地的真空气压式纳米压印方案，顺利完成8英寸晶圆光芯片批量制造，产品精度对标DUV光刻工艺，各项电学与光学参数达标，已经具备商业化批量供货条件。相较于传统DUV光刻产线，整套设备投入、耗材使用费用大幅缩减，终端光芯片生产成本降至原有工艺的一成，能够帮助国内光芯片厂商大幅压缩制造开支。
当前全球AI算力爆发带动高速光模块需求激增，海量光芯片订单倒逼产业链降本增效。新工艺落地后，国内光芯片设计与制造企业可摆脱高价进口光刻设备束缚，加速中低端乃至部分高端光芯片国产替代，助推国内算力光互连、数据中心光模块产业链提速发展。
璞璘科技纳米压印量产突破，打开国产光芯片低成本量产新路径。随着工艺持续迭代优化，该技术有望逐步向功率器件、MEMS芯片等领域延伸，进一步拓宽国产半导体低成本制造边界，加速国内多品类芯片国产化进程。
（校对/李正操）
