芯碁微装“曝光总成及具有其的光刻设备”专利公布

作者：爱集微 01-14 16:41

来源：爱集微 #芯碁微装#

1.1w

天眼查显示，合肥芯碁微电子装备股份有限公司“曝光总成及具有其的光刻设备”专利公布，申请公布日为2024年10月13日，申请公布号为CN119126500A。

本发明公开了一种曝光总成及具有其的光刻设备，曝光总成，包括：光源、分束器、承载件和检测设备，分束器与光源相对设置，分束器构造成对经过的光线进行分解导向；承载件与分束器相对设置，承载件用于承载件件；检测设备与分束器相对设置，且检测设备设于分束器背离承载件的一侧；光线透过分束器后到检测设备内进行传感分析。通过在曝光总成内设有分束器，分束器能够对经过光线进行反射分解，以让检测设备能够通过对承载件所反射的光线进行检测，以对曝光总成的使用情况进行实时监测与反馈，并根据当前检测结构调整曝光总成的曝光性能，以让曝光总成在使用过程中的输出性能能够满足当前需求，以提升曝光效果和曝光效率。