【科技成果推介】高速光电子集成芯片

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项目信息

申报院校:西安交通大学

项目名称:高速光电子集成芯片

项目简介

1.本项目通过采用廉价CMOS工艺,芯片制造成本较现有SiGe产品降低一个数量级。同时,CMOS流片周期为2个月,较SiGe流片时间(6个月)缩短3倍,极大加速产品研发及迭代时间。目前市场已有产品均基于SiGe工艺,不但成本高、制造周期长,而且国内无高速SiGe芯片代工厂。业界有公司尝试采用CMOS进行此类产品设计,目前均未有成功报道。

2.基于课题组10余年的研发积累和深度产学研合作,通过独有的芯片设计技术和努力,首次在CMOS平台突破了低噪声、快速突发相响应、大动态突发输入范围、低功耗等技术难关芯片整体性能较同类产品有明显优势。测试结果表明,芯片实现了10G PON Class C+级性能。

所属类别

半导体

市场前景

随着光纤接入网等快速发展,千兆入户已开始大规模商用。预计未来10年,市场将持续高速增长。

项目需求

联合研发、技术入股、授权

合作咨询请联系韩先生:18918459526

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