尼康计划在2028财年（2028年4月至2029年3月）推出一款新的ArF浸润式光刻系统平台，该平台与ASML设备兼容，标志着其战略性地挑战半导体制造市场领导者的主导地位。
在2025年2月的财务结果简报中，尼康透露正在与主要半导体制造商合作开发新系统，预计2028年交付原型机，后续型号计划在2030年后开发。
尼康新系统将采用紧凑的平台设计、创新的投影镜头技术和先进的晶圆平台。尽管具体的制造合作伙伴尚未公开，尼康强调该系统通过高速平台和减少维护需求，提升了操作效率。
尼康新光刻系统开发的关键方面是与现有ASML ArF浸润式光刻设备的兼容性，包括支持当前的ASML光掩模。这种战略兼容性旨在降低潜在客户转向尼康系统的障碍，因为该公司寻求在日益增长的ArF浸润式光刻市场中扩大其影响力。
在全球ArF浸润式光刻系统市场中，ASML和尼康是仅有的两家制造商，ASML占据超过90%市场份额。ASML的市场主导地位源于其革命性的“双平台”技术，该技术采用测量和曝光双晶圆平台。尽管这一创新增加了设备成本，但它明显提高了吞吐量，使ASML超越当时的市场领导者尼康。
尼康预计从2028年开始，对新ArF浸润式光刻系统的需求将增加，这得益于半导体行业向DRAM和逻辑IC的3D集成转变。该公司将台积电、英特尔和三星电子等主要半导体制造商视为其新系统的潜在客户。
尼康目标是在ArF浸润式光刻系统市场中实现与其在ArF干式光刻机相当的市场份额，目前在ArF干式光刻段，尼康占据超过10%的市场份额，而ASML占据主导地位。具体而言，尼康希望将其ArF浸润式光刻市场份额从个位数提升至两位数。
除了这一举措，尼康在半导体制造领域还保持着多样化的产品组合，生产KrF和i-line光刻系统，以及极紫外（EUV）光刻产品。（校对/李梅）
