近日，专注纳米压印光刻设备的普雨科技（苏州）有限公司正式宣布完成数亿元B+轮融资。本轮融资由普丰资本、零一创投领投，同时引入多家政府产业平台，华芯资本将任新一轮长期财务顾问。本轮数亿元融资将重点用于三大方向：持续提升设备分辨率、套刻精度、量产效率，进一步缩小与国际顶尖水平差距；扩建研发与中试产线，提升交付能力，支撑客户批量验证与订单落地；深化与集成电路、先进封装、光学、AR/VR 等领域头部企业合作。
自2024年7月成立至今，普雨科技已连续完成多轮融资，累计融资额达数亿元，迅速成为国产纳米压印领域的标杆企业。
光刻是芯片制造最核心、成本最高的环节，长期被海外巨头垄断。EUV光刻机技术成为国产半导体突围的关键瓶颈。而纳米压印光刻是最有可能实现差异化替代的技术方向：成本优势显著；分辨率高、良率优，能够实现超高精度微纳结构加工；应用场景广阔，覆盖先进封装等泛半导体领域；绿色低能耗。
普雨科技核心团队深耕纳米压印与半导体设备领域二十余年，拥有成熟工程化经验。公司已搭建起从研发、设计、工艺到供应链、交付的全链条自研团队，真正具备从实验室走向产线的完整能力。目前，普雨科技首台套纳米压印光刻设备已进入总装调试关键阶段，多项自主核心技术达到行业领先水平，填补国内高端纳米压印设备空白。
