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三星计划两年内推出第三代2nm工艺,战略转向稳定良率

作者: 孙乐 07-03 10:12
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来源:爱集微 #三星# #2nm#
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一系列复杂因素迫使三星推迟其下一代1.4nm制程,这意味着战略的重大转变。三星计划在两年内推出其第三代2nm制程,该制程将在第二代2nm制程的基础上带来一系列改进。三星新战略转向改进现有技术,包括提高良率并增强与台积电的竞争力。

7月1日,在三星合作伙伴举办的SAFE论坛上,三星展示了第三代2nm制程(称为“SF2P+”),该工艺通过在第二代2nm节点(也称为“SF2P”)上应用“光学微缩(Optic Shrink)”技术实现。据报道,知名爆料人@Jukanlosreve 透露了相关细节,更先进的SF2P+制程相比旧制程可实现20%~30%的性能提升,但并未提及与SF2P+相比的具体节点。

除了实施第三代2nm制程外,此前有报道称,三星已完成其第二代2nm技术的基本设计,并计划于2026年实现量产。至于三星为何推迟1.4nm工艺节点,转而采用更精细的旧版光刻技术,该公司发言人表示,三星不急于采用新工艺,而是希望通过稳定良率来改进现有工艺。

三星的晶圆代工和大规模集成电路(LSI)部门一直在密切合作,以推进即将推出的Exynos 2600原型产品的量产,据称该芯片将采用2nm GAA工艺节点。未来几个月的良率目标是50%,这意味着到2025年底,这一数字将会攀升到可观水平。高通也有可能推出一款搭载三星2nm GAA工艺的骁龙8 Elite Gen 2版本,专属用于三星Galaxy S26系列,该版本的试生产已在进行中,代号为“Kaanapali S”。(校对/赵月)

责编: 李梅
来源:爱集微 #三星# #2nm#
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