• 行业咨询
  • 品牌营销
  • 集微资讯
  • 知识产权
  • 集微职场
  • 集微投融资
  • 集微企业库
搜索
爱集微APP下载

扫码下载APP

爱集微APP扫码下载
集微logo
资讯集微报告舆情JiweiGPT企业洞察
2025第九届集微半导体大会集微视频
登录登录
bg_img
search_logo
大家都在搜

鲁汶仪器“一种等离子体密度控制系统及方法”专利获授权

作者: 爱集微 2024-12-11
相关舆情 AI解读 生成海报
来源:爱集微 #鲁汶仪器#
1.8w

天眼查显示,江苏鲁汶仪器股份有限公司近日取得一项名为“一种等离子体密度控制系统及方法”的专利,授权公告号为CN114724914B,授权公告日为2024年11月5日,申请日为2021年1月4日。

本发明公开了一种等离子体密度控制系统及方法,包括离子源、反应腔室、挡片机构和法拉第杯组;法拉第杯组设在与屏栅正对应的反应腔室壁面上,包括法拉第杯安装架和至少N个法拉第杯;N个法拉第杯与屏栅上N组屏栅环状孔的位置相对应;挡片机构包括驱动装置控制器和至少两组挡片组件;每组挡片组件均包括若干个挡片和挡片驱动装置;若干个挡片均沿放电腔尾端周向均匀布设;每个挡片均能旋转伸入放电腔内,遮挡进入屏栅环状孔的等离子体;挡片组件间的挡片交替布设,挡片组件间的挡片形状不同。本发明能对离子源引出的离子束密度进行测量,并对等离子体密度进行实时控制,有效解决由于工艺条件改变而导致的刻蚀不均匀问题,并减小生产成本。

责编: 赵碧莹
来源:爱集微 #鲁汶仪器#
分享至:
THE END

*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

相关推荐
  • 【专利】鲁汶仪器“一种位于开口侧壁表面的膜层的刻蚀方法”专利公布

  • 鲁汶仪器“一种位于开口侧壁表面的膜层的刻蚀方法”专利公布

  • 鲁汶仪器“一种闪耀光栅的制造方法”专利公布

  • 鲁汶仪器 “一种介电质窗口及半导体设备”专利公布

  • 鲁汶仪器“等离子体刻蚀设备、刻蚀机台、聚焦环及其顶升结构”专利公布

  • 鲁汶仪器“一种离子源装置及离子源系统”专利获授权

评论

文明上网理性发言,请遵守新闻评论服务协议

登录参与评论

0/1000

提交内容
    没有更多评论
爱集微

微信:

邮箱:laoyaoba@gmail.com


11.5w文章总数
12012.5w总浏览量
最近发布
  • 中兴第一!17.37亿AI服务器中标公示

    8小时前

  • 芯鑫租赁联合多方促AI突围 众机构齐聚一堂用中国智慧筑发展格局

    12小时前

  • 芯鑫租赁发布成立十周年宣传活动标识

    12小时前

  • 亿启攀登,芯耀全球——晶存子公司妙存科技“eMMC控制器芯片出货突破一亿颗庆典”圆满举行

    13小时前

  • 正式开启 | 新思科技中国30周年暨2025新思科技开发者大会

    13小时前

最新资讯
  • 中兴第一!17.37亿AI服务器中标公示

    8小时前

  • 蔚蓝锂芯控股子公司拟8388万美元在马来西亚投建LED项目

    9小时前

  • 瑞芯微上半年净利润增190.61%,AIoT产品线高速增长

    10小时前

  • 中科飞测上半年营收增51.39%

    10小时前

  • *ST华微完成资金占用整改 股票8月19日复牌

    10小时前

  • 景嘉微拟2.2亿增资诚恒微,进军边端侧AI芯片

    10小时前

关闭
加载

PDF 加载中...

集微logo
网站首页 版权声明 集微招聘 联系我们 网站地图 关于我们 商务合作 rss订阅

联系电话:

0592-6892326

新闻投稿:

laoyaoba@gmail.com

商务合作:

chenhao@ijiwei.com

问题反馈:

1574400753 (QQ)

集微官方微信

官方微信

集微官方微博

官方微博

集微app

APP下载

Copyright 2007-2023©IJiWei.com™Inc.All rights reserved | 闽ICP备17032949号

闽公网安备 35020502000344号