9月20日，北京燕东微电子科技有限公司8英寸介质层刻蚀设备采购中标结果公示。
该项目中标人为北京北方华创微电子装备有限公司（以下简称“北方华创”），标的物为1台8英寸介质层刻蚀设备，该设备用于实现200mm半导体集成电路硅片制造流程中介质层刻蚀的工艺。
北方华创官方消息显示，在刻蚀领域，2005年8月，北方华创第一台ICP刻蚀机进入大生产线；2017年11月，北方华创推出第一台金属刻蚀机；2022年8月12日，北方华创发布CCP介质刻蚀机，已在5家客户完成验证并实现量产。至此，北方华创实现刻蚀工艺全覆盖。
9月2日，北方华创中标松山湖材料实验室1台深Si刻蚀设备；8月30日，北方华创中标西安电子科技大学2台ICP刻蚀设备。（校对/赵碧莹）
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