• 行业咨询
  • 品牌营销
  • 集微资讯
  • 知识产权
  • 集微职场
  • 集微投融资
  • 集微企业库
搜索
爱集微APP下载

扫码下载APP

爱集微APP扫码下载
集微logo
资讯集微报告舆情JiweiGPT企业洞察
2025第九届集微半导体大会集微视频
登录登录
bg_img
search_logo
大家都在搜

鲁汶仪器“一种离子源装置及离子源系统”专利获授权

作者: 爱集微 2024-08-14
相关舆情 AI解读 生成海报
来源:爱集微 #鲁汶仪器#
1.9w

天眼查显示,江苏鲁汶仪器股份有限公司“一种离子源装置及离子源系统”专利公布,申请公布日为2024年8月6日,申请公布号为CN118448236A。

本发明公开一种离子源装置及离子源系统,其中,该离子源装置包括工作桶,所述工作桶包括环形侧板和底板,所述环形侧板位于所述底板的一侧,所述环形侧板和所述底板围合形成放电腔室;所述环形侧板的内壁面设置有第一隔断部,所述第一隔断部为凹陷结构或者凸起结构;和/或,所述底板的内壁面设置有第二隔断部,所述第二隔断部为凹陷结构或者凸起结构。采用上述方案,环形侧板的内壁面设置有第一隔断部,和/或,底板的内壁面设置有第二隔断部,第一隔断部、第二隔断部均为凹陷结构或者凸起结构,能够增加环形侧板和/或底板内壁面形成周向导通的导电镀层的难度,这在一定程度上可抑制涡流的形成,以减少能量损耗,离子源装置的工作稳定性较高。

责编: 赵碧莹
来源:爱集微 #鲁汶仪器#
分享至:
THE END

*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

相关推荐
  • 【专利】鲁汶仪器“一种位于开口侧壁表面的膜层的刻蚀方法”专利公布

  • 鲁汶仪器“一种位于开口侧壁表面的膜层的刻蚀方法”专利公布

  • 鲁汶仪器“一种闪耀光栅的制造方法”专利公布

  • 鲁汶仪器 “一种介电质窗口及半导体设备”专利公布

  • 鲁汶仪器“等离子体刻蚀设备、刻蚀机台、聚焦环及其顶升结构”专利公布

  • 鲁汶仪器“一种等离子体密度控制系统及方法”专利获授权

评论

文明上网理性发言,请遵守新闻评论服务协议

登录参与评论

0/1000

提交内容
    没有更多评论
爱集微

微信:

邮箱:laoyaoba@gmail.com


11.5w文章总数
12012.5w总浏览量
最近发布
  • 苹果iPhone 17进入量产阶段 鸿海郑州厂启动旺季招工

    10小时前

  • 顺络电子诚邀您参加elexcon2025深圳国际电子展暨嵌入式展

    11小时前

  • 台积电全球布局 近年获美德日陆政府补助新台币1422亿元

    11小时前

  • Arm Zena 计算子系统:为 AI 定义的时代打造可扩展自动驾驶技术之路

    11小时前

  • Arm Zena CSS 助力车厂提前一年推出 AI 定义汽车

    11小时前

最新资讯
  • 鹏鼎控股拟投资80亿元扩产 深化AI全产业链布局

    5小时前

  • 莱特光电上半年净利润1.26亿元,同比增长36.74%

    5小时前

  • 天承科技上半年净利润3673.36万元 同比增长0.2%

    6小时前

  • 芯碁微装直写光刻设备批量导入国内多家封测龙头

    6小时前

  • 赛微电子:拟1.57亿元收购展诚科技56.24%股权

    8小时前

  • Arm强攻GPU创新 AI技术赋能显著提升手游体验

    9小时前

关闭
加载

PDF 加载中...

集微logo
网站首页 版权声明 集微招聘 联系我们 网站地图 关于我们 商务合作 rss订阅

联系电话:

0592-6892326

新闻投稿:

laoyaoba@gmail.com

商务合作:

chenhao@ijiwei.com

问题反馈:

1574400753 (QQ)

集微官方微信

官方微信

集微官方微博

官方微博

集微app

APP下载

Copyright 2007-2023©IJiWei.com™Inc.All rights reserved | 闽ICP备17032949号

闽公网安备 35020502000344号